蚀刻 编辑
蚀刻是指以酸性、腐蚀性或有研磨效用的物质在玻璃表面上创作的技术。传统上，这段过程是在玻璃吹制好或铸好之后进行的。
1
相关
王水，又称王酸、硝基盐酸，由浓硝酸和浓盐酸按1:3混合而成，酸性和氧化性极强，是少数能够溶解金和铂的溶液，也因此得名。王水不稳定，极易变质分解，暴露在空气中会冒黄色烟雾，不宜长期存放，一般在使用前配制，现配现用。
王水在冶金工业和化学分析用于溶解金属，也用于蚀刻工艺。
乙二胺邻苯二酚, 也被称为湿蚀刻溶液，是一种用于硅的各向异性蚀刻溶液。典型的配方包括乙二胺、邻苯二酚、吡嗪和水。本品具有致癌性以及非常强的腐蚀性。主要用于研究实验室里，在主流半导体制程里并无应用。
王水，又称王酸、硝基盐酸，由浓硝酸和浓盐酸按1:3混合而成，酸性和氧化性极强，是少数能够溶解金和铂的溶液，也因此得名。王水不稳定，极易变质分解，暴露在空气中会冒黄色烟雾，不宜长期存放，一般在使用前配制，现配现用。
王水在冶金工业和化学分析用于溶解金属，也用于蚀刻工艺。
王水，又称王酸、硝基盐酸，由浓硝酸和浓盐酸按1:3混合而成，酸性和氧化性极强，是少数能够溶解金和铂的溶液，也因此得名。王水不稳定，极易变质分解，暴露在空气中会冒黄色烟雾，不宜长期存放，一般在使用前配制，现配现用。
王水在冶金工业和化学分析用于溶解金属，也用于蚀刻工艺。
反应离子蚀刻是一种半导体生产加工工艺，它利用由等离子体强化后的反应离子气体轰击目标材料，来达到蚀刻的目的。气体在低压力环境下由电磁场产生，等离子体中的高能离子轰击芯片表面并与之反应。