光刻胶 编辑
光刻胶，亦称为光阻或光阻剂，是指经过紫外光、深紫外光、电子束、离子束、X射线等光照或辐射后，溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料，是光刻工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和离散元件的细微图形加工。
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