大规模集成电路 编辑
集成电路，或称微电路、微芯片、芯片，在电子学中是一种将电路集中制造在半导体晶圆表面上的小型化方式。
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邓中翰，男，汉族，江苏南京人，中国微电子学、大规模集成电路设计技术专家，中国工程院信息与电子工程学部院士，第十一届全国人民代表大会天津地区代表。现任中星微电子有限公司董事长。
超大规模集成电路，是一种将大量晶体管组合到单一芯片的集成电路，其集成度大于大规模集成电路。集成的晶体管数在不同的标准中有所不同。从1970年代开始，随着复杂的半导体以及通信技术的发展，集成电路的研究、发展也逐步展开。计算机里的控制核心微处理器就是超大规模集成电路的最典型实例，集成电路设计，尤其是数字集成电路，通常采用电子设计自动化的方式进行，已经成为计算机工程的重要分支之一。
VRC VI 是科乐美于1989年开发的红白机用只读内存存储器控制集成电路，也兼用做音源大规模集成电路。
VRC VI 是科乐美于1989年开发的红白机用只读内存存储器控制集成电路，也兼用做音源大规模集成电路。
超大规模集成电路，是一种将大量晶体管组合到单一芯片的集成电路，其集成度大于大规模集成电路。集成的晶体管数在不同的标准中有所不同。从1970年代开始，随着复杂的半导体以及通信技术的发展，集成电路的研究、发展也逐步展开。计算机里的控制核心微处理器就是超大规模集成电路的最典型实例，集成电路设计，尤其是数字集成电路，通常采用电子设计自动化的方式进行，已经成为计算机工程的重要分支之一。
超大规模集成电路，是一种将大量晶体管组合到单一芯片的集成电路，其集成度大于大规模集成电路。集成的晶体管数在不同的标准中有所不同。从1970年代开始，随着复杂的半导体以及通信技术的发展，集成电路的研究、发展也逐步展开。计算机里的控制核心微处理器就是超大规模集成电路的最典型实例，集成电路设计，尤其是数字集成电路，通常采用电子设计自动化的方式进行，已经成为计算机工程的重要分支之一。
曝光机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；以及利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机或扫描式光刻机，获得比模板更小的曝光图样。
曝光机是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；以及利用短波长激光和类似投影机原理的步进式光刻机或扫描式光刻机，获得比模板更小的曝光图样。
上海贝岭股份有限公司，简称“上海贝岭”。公司是微电子行业的一家生产大规模集成电路的大型骨干企业。前身为1988年9月始建的上海贝岭微电子制造有限公司，1988年，公司由上海仪电控股公司和上海贝尔电话设备制造有限公司共同发起，将其共同投资的上海贝岭微电子制造有限公司依法变更而成的股份有限公司。上海贝岭在发展初期得到大量由贝尔公司转让的微电子技术，得以能够发展出稳固的集成电路技术。1998年9月24日，在上海证券交易所上市。公司驻地在上海市漕河泾开发区。截至2012年，第一大股东为中国电子信息产业集团。
上海贝岭股份有限公司，简称“上海贝岭”。公司是微电子行业的一家生产大规模集成电路的大型骨干企业。前身为1988年9月始建的上海贝岭微电子制造有限公司，1988年，公司由上海仪电控股公司和上海贝尔电话设备制造有限公司共同发起，将其共同投资的上海贝岭微电子制造有限公司依法变更而成的股份有限公司。上海贝岭在发展初期得到大量由贝尔公司转让的微电子技术，得以能够发展出稳固的集成电路技术。1998年9月24日，在上海证券交易所上市。公司驻地在上海市漕河泾开发区。截至2012年，第一大股东为中国电子信息产业集团。