脉冲激光沉积 编辑
脉冲激光沉积，也被称为脉冲激光烧蚀为物理气相沉积的一种 , 是一种利用聚焦后的高功率脉冲激光于真空腔体中对靶材进行轰击，由于激光能量极强，会将靶材汽化形成电浆蕈状团，并沉淀于基板上形成薄膜。
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氮化铝铟镓的化学式是铟镓铝氮，是以氮化镓为基础的半导体，常用磊晶成长的方式制成，像是有机金属化学气相沉积法、分子束外延、脉冲激光沉积等方式。此材料用在特别的光电应用中，像是蓝光激光LED及蓝光LED等。
氮化铝铟镓的化学式是铟镓铝氮，是以氮化镓为基础的半导体，常用磊晶成长的方式制成，像是有机金属化学气相沉积法、分子束外延、脉冲激光沉积等方式。此材料用在特别的光电应用中，像是蓝光激光LED及蓝光LED等。